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23 thg 2, 2021 · plasma等离子清洗机喷射出来的准确来说不是火焰，是等离子体中的光子导致的， 等离子体 中包括光子、电子、电子、 原子 和分子等物质；设备温度在大概在50-80摄氏度，有些甚至更 …
2 thg 3, 2021 · Plasma是一套KDE的设计和基于QT5的实现，有着于以往非常不同的体验，几乎是重写。 你可以认为类似于大版本号的东西。
Plasma Etch 为什么需要Low Pressure Plasma Etch的开发方向为 low pressure， high density plasma。 为什么需要低压呢？ 1. MFP: pressure 降低->粒子数减少， MFP增加 2. Particle： 低压 …
尝鲜了一下。 说下最直观的感受， wayland 下终于可以开启4k真缩放且没有模糊感了。喜大普奔。以往高分屏+kde+wayland的组合是真的用不了一点。 kde6 总算解决了。（是不是真的完全解决了，还 …
plasma的词源最初是从词根“*pele-”“流动”衍生出的“ * plath-yein”，后来的 血浆 blood plasma 应该就直接继承这个含义，又衍生出类似血浆的细胞质（或者成为细胞浆？ ）和等离子体（又译为“电 …
30 thg 7, 2019 · Xfce 耗能小而稳，但是是gtk2，某些方面会吃亏 KDE 很好看用着很顺，定制性高，但是耗能大不太稳定有点卡 GNOME 定制性差，耗能中等，不稳定，使用体验中等，比较好看，但是 …
Dry etch常见profile类型、产生原理及相关改善方法 写在前面 Dry etch工艺过程中，我们所需传递的pattern多为line、trench、hole等。一般情况下，我们期望得到比较垂直的…
刚刚做完Plasma，回答一下Plasma吧。 做之前，已经查了很多资料，我以为准备要做的是CO2，看了知情书后才知道是Plasma.大概需要做三次。
当前dry etch机台种类较多，同类设备不同厂商设计也各不相同（避免专利纠纷）。因为Plasma是靠外加能量的输入来维持刻蚀gas的等离子体状态，不同的能量输入方式以及机台结构的设计对等离子体的 …
我想要一个默认样式类似Windows，但可定制性很好的桌面环境——KDE Plasma（manjaro官方支持） 我想要一个最像Windows的桌面环境——UKUI（manjaro不支持，但旧版本存在于软件源） 我想要 …
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